无掩膜直写光刻机
- 制造厂商：Heidelberg Instruments
- 购置日期：暂无信息
- 型号：DWL 66+
- 生产国别：德国
- 仪器类别：工艺实验设备
- 安放地址：上海市
跨区域科技政策：
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- 仪器详情
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系统具有高度的灵活性, 不仅可在敷图有光刻胶的任何平面衬底上进行图形制备，还适用于掩模版加工。具有矢量与光栅扫描曝光两种模式，可执行的文件具有多种文件格式，还可用于三维结构的加工制备。具有背面套刻功能。
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暂无信息
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光源：405nm或375nm的二极管激光器；基板尺寸：变量：3x3mm2至9"x9"（可根据要求定制）；基板厚度：0至12毫米；最大曝光面积：200x200平方毫米；分辨率：150nm；温控流箱：温度稳定性±0.1°，ISO 4环境；实时自动对焦：光学自动对焦或气压计自动对焦；自动对焦补偿范围：80微米；标准或高级灰度模式：分别为128/255灰度；矢量模式：允许免拼接线直写；背面对齐（可选）：允许将曝光对准基板背面的结构。
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电子与通信技术
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制版
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所
机构介绍:
上海科学院上海微系统与信息技术研究所原名中国科学院上海冶金研究所，是中国科学院所属以信息微系统技术的研究与开发为主的高技术研究所，主要研究领域包括微电子机械系统、传感器技术、无线信息网络、射频与微波模块、光电子器件、生物芯片、新型电池技术等。该所以国家需求为导向，围绕“电子科学与技术”、“信息与通信工程”两大新的学科方向，利用本所在功能材料与器件研究方面的积累和微电子平台工艺技术为支撑，以“小卫星、微系统技术平台”两个重大项目为依托，以系统带器件、器件带材料、加强原始创新，加强关键技术创新与集成研究，开展集成微光机电系统、天地一体化通信技术与系统，信息功能材料与器件、微型和新型能源技术与系统等研究活动。中国科学院上海微系统与信息技术研究所中国科学院上海微系统与信息技术研究所。
资质能力：
