高真空金属膜沉积系统
- 制造厂商：Kurt J. Lesker Co.
- 购置日期：暂无信息
- 型号：PVD 75
- 生产国别：美国
- 仪器类别：工艺实验设备
- 安放地址：上海市
跨区域科技政策：
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- 仪器详情
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该设备单步工艺可连续蒸镀3种金属及氧化物材料，有DC及RF模式可选。利用电子束加热蒸发材料，在基片表面制备高纯薄膜。可用于Pt、Au、Ti、Cr、Al、Ag、Ni、Ge、W等多种金属镀膜，也可用于SiO2、ITO等氧化物及金属氧化物半导体材料的沉积，具有沉积材料致密性强、膜厚控制精度高的优点。
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暂无信息
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成膜均匀性：优于±5%；电子枪电源功率：5Kw；样品台：兼容最大至150mm直径基片及不规则碎片样品夹具；坩埚：8个，12cc；样品转盘转速：最大20rpm；蒸发源与基片距离：约23英寸。
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电子与通信技术
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高真空金属沉积
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暂无信息
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所
机构介绍:
上海科学院上海微系统与信息技术研究所原名中国科学院上海冶金研究所，是中国科学院所属以信息微系统技术的研究与开发为主的高技术研究所，主要研究领域包括微电子机械系统、传感器技术、无线信息网络、射频与微波模块、光电子器件、生物芯片、新型电池技术等。该所以国家需求为导向，围绕“电子科学与技术”、“信息与通信工程”两大新的学科方向，利用本所在功能材料与器件研究方面的积累和微电子平台工艺技术为支撑，以“小卫星、微系统技术平台”两个重大项目为依托，以系统带器件、器件带材料、加强原始创新，加强关键技术创新与集成研究，开展集成微光机电系统、天地一体化通信技术与系统，信息功能材料与器件、微型和新型能源技术与系统等研究活动。中国科学院上海微系统与信息技术研究所中国科学院上海微系统与信息技术研究所。
资质能力：
