场发射电子束/聚焦离子束双束工作站
- 制造厂商：ZEISS
- 购置日期：2015-12-16
- 型号：ZEISS Auriga SEM/FIB Crossbeam System
- 生产国别：德国
- 仪器类别：工艺实验设备
- 安放地址：上海市
跨区域科技政策：
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- 仪器详情
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双束系统中场发射扫描电镜主要用于观察、分析和记录材料的微观形貌，聚焦离子束用来对样品进行在微纳米尺度下的图形沉积、切割、刻蚀、透射样品制备及原子探针针尖加工等工作
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1.分辨率：≤1.0nm@15V，≤1.9nm@1KV Resolution: ≤1.0nm@15V，≤1.9nm@1KV 2.加速电压：0.1KV-30KV Acceleration voltage: 0.1KV-30KV 3.电子枪:热场发射电子枪 Election gun: thermal field emission type 离子束：Ion Beam: 1.离子源种类：液态Ga离子源 Ion source type: liquid Ga+ source 2.分辨率：≤2.5nm@30kV Resolution: ≤2.5nm@30kV 3.加速电压：1kV-30kV Acceleration voltage: 1kV-30KV
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材料科学,电子与通信技术,信息与系统科学相关工程与技术
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1.Pt,W,C,SiO2,XeF2气体注入系统：可在离子束、电子束诱导下进行可控沉积及增强或选择性刻蚀； 2.牛津纳米机械手（含电学性能测试）：透射电镜取样系统，可提取FIB切割后的微小样品，配合FIB对纳米材料进行搬运、操纵； 3.三维成像系统：可实现对样品的自动切割，自动拍照以及所有照片叠加后的三维重构； 4.微纳米加工系统：具备离子束沉积并加工复杂图形的软硬件系统； 5.具有电子束流枪，可对绝缘体材料无干扰加工或刻蚀； 最大样品尺寸不大于150mm。极限真空：优于5×10-7Torr
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上海交通大学
机构介绍: 上海交通大学是教育部直属、由教育部和上海市共建的全国重点大学。近几年来，每年科研项目超过1500项，科研经费突破6亿元。高清晰度数字电视系统、MCFC燃料电池、以1mm微马达为核心器件的微机械等一大批高水平科研成果已经或可望产生巨大的经济效益和社会效益。此外，在记忆合金、集成电路、计算机科学、力学等基础理论研究方面均取得重要成果。
资质能力：
