深反应离子刻蚀系统
- 制造厂商：ALCATEL
- 购置日期：2003-07-24
- 型号：601E
- 生产国别：法国
- 仪器类别：工艺实验设备
- 安放地址：上海市
跨区域科技政策：
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- 仪器详情
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ALCATEL刻蚀机是一种刻蚀速率高、加工精度高、损伤小的新一代先进刻蚀机。对处于低压状态下的容器内的气体C4F8 SF6 O2施以电压，使这些粒子形成等离子体，借着离子对硅片表面进行轰击，高速刻蚀未被掩蔽的Si，利用C4F8保护刻蚀的侧壁，以达到深宽比好的效果，利用氧气对刻蚀下来的残渣进行迅速的清理，使刻蚀结果具有极佳的各向异性以及较好的选择性，对SOI片刻蚀并在刻蚀达到绝缘层时准确进行终点检测。能刻蚀0.1µm线条和角度接近90度的陡直图形。
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1. 高深宽比刻蚀：平均刻蚀速率：1.82um/min；选择比：1比155；均匀性：1.2%。
2．深刻蚀：平均深度：381um；均匀性：4%；掩膜比率：580 A/min；刻蚀速率：5.08 um/min；选择比：87。3．SOI片的刻蚀；平均刻蚀速率：2.5um；掩膜类型：PR。 -
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所
机构介绍:
上海科学院上海微系统与信息技术研究所原名中国科学院上海冶金研究所，是中国科学院所属以信息微系统技术的研究与开发为主的高技术研究所，主要研究领域包括微电子机械系统、传感器技术、无线信息网络、射频与微波模块、光电子器件、生物芯片、新型电池技术等。该所以国家需求为导向，围绕“电子科学与技术”、“信息与通信工程”两大新的学科方向，利用本所在功能材料与器件研究方面的积累和微电子平台工艺技术为支撑，以“小卫星、微系统技术平台”两个重大项目为依托，以系统带器件、器件带材料、加强原始创新，加强关键技术创新与集成研究，开展集成微光机电系统、天地一体化通信技术与系统，信息功能材料与器件、微型和新型能源技术与系统等研究活动。中国科学院上海微系统与信息技术研究所中国科学院上海微系统与信息技术研究所。
资质能力：
