该系统建立在铝合金型材框架上,框架上装有真空室,真空构件,电控,电脑界面,真空室内部尺寸为300*300*530mm,装有基础结构和挡板的固定装置,以及电极、真空泵、加热、转移、反馈等装置。可对样品实施360度电动匀速旋转,转速可在0~50转/min内连续调节,可以停留在任意指定位置。基盘可以容纳4个32 mm x 32 mm的蒸镀基片。旋转底盘上配备12个掩膜图案,可以和任意基片配合完成蒸镀。掩膜图案的切换由电脑软件控制,通过伺服电机控制基片旋转和静态沉淀。3台低电压大电流的电源,可以通过切换,对12个蒸发源加热,最多可以共同蒸发3种材料。真空室有两个可以完全打开的门,前面是推拉门,可以对腔体内部进行维护,后面是移门,可以连接附加的手套箱。