IPEC 472 CMP
- 制造厂商：IPEC
- 购置日期：暂无信息
- 型号：IPEC 472
- 生产国别：美国
- 仪器类别：工艺实验设备
- 安放地址：江苏省
跨区域科技政策：
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- 仪器详情
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IPEC 472化学机械平坦化系统是全自动，单片单面抛光设备，主要针对8寸晶圆表面半导体材料去除，高精度平坦化作业。
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暂无信息
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暂无信息
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Within Wafer Non-‐Uniformit TOX,TEOS:≤5%1σ avg. Wafer to Wafer Non-‐Uniformity(WTW):%1σ TOX,TEOS:≤3%1σ avg. Edge Exclusion Oxide:≥7mm Wafer to wafer removal rate TOX:≥1700Ǻ/min,TEOS:≥2000Ǻ/min
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信息与系统科学相关工程与技术
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8寸硅晶圆表面抛光，8寸晶圆表面不同半导体工艺沉积的氧化硅薄膜进行平坦化抛光工艺服务
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暂无
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1500元/小时，最低预约工艺机时2小时。
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暂无信息
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暂无信息
